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검색글 Kenji FUKUDA 3건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

무전해 치환 석출법에 의해 Au 금입자를 부여함으로써 탄화실리콘 SiC 상에 무전해 니켈-인 Ni-P 도금막을 직접 형성하는 데 성공했다. 이 때, Si 상에 도금을 실시한 경우 마찬가지로 촉매로 사용되는 입자의 종류와 입자 수의 밀도에 따라 도금 막의 밀착성이나 전극 특성이 변할 수 있기 때문에 이들...

니켈/Ni · 표면기술 · 71권 12호 2020년 · Kenji FUKUDA · Ryo FUJI 외 .. 참조 5회

불화수소산을 이용한 고효율로 귀금속을 회수하는 방법으로, 귀금속 용액의 pH 에 착안하였다. 실리콘을 수산화나트륨이나 수산화테트라 메틸암모늄 (TMAH) 등의 염기성 수용액에 침지하여 실리콘의 에칭이 진행되고, 그 이방성등의 특징을 활용하여 텍스쳐 처리에 의한 태양전지의 반사 방지나 미...

치환도금 · 표면기술 · 69권 5호 2018년 · Kenji FUKUDA · Shotaro ARITA 외 .. 참조 14회

HF 용액을 이용하여 귀금속을 회수하는 방법으로, 산화막을 제거한 Si 분말을 이용하여 시험하였다.

무전해도금통합 · 표면기술 · 69권 2호 2018년 · Kenji FUKUDA · Shinji YAE 참조 10회